在芯片的生产过程中，光刻机是非常重要的设备之一，是核心设备之一。光刻机的使用需要配合光刻胶，因为光刻机的光线需要照射到已经涂抹了光刻胶的硅晶圆上，只有通过光刻胶的感光作用，才能在硅晶圆上形成芯片的线路图。不同的工艺技术需要使用不同的光刻胶优配速至，这两者是紧密配合的。
目前优配速至，全球的光刻胶市场主要被日本的几家大企业所垄断。根据数据，日本的企业如TOK、JSR、信越化学、富士胶片等，长期以来在全球光刻胶市场的份额超过了75%。尤其是在高端光刻胶领域，份额更是占据了绝对优势，比如EUV光刻胶的市场份额已经超过了97%。
过去几年，由于国内技术的局限，中国一直依赖从日本进口光刻胶。我国大部分的制造工艺技术停留在65nm及以上水平，无法满足更高要求的光刻胶需求。因此，这些年，国内的光刻胶生产厂商一直在努力突破，投入大量资金进行研发，目的是减少对日本光刻胶的依赖。
展开剩余50%如今，国内已有几家公司突破了40nm，甚至28nm工艺的光刻胶技术，部分不再需要完全依赖日本进口光刻胶。根据《日本经济新闻网》最近的报道，超过50%的光刻胶市场份额正在被中国企业争夺。未来，随着中国企业的持续进步，日本在光刻胶领域将不再占据垄断地位。
这也与中国企业的技术突破密切相关，尤其是在中低端市场。中国从日本进口的光刻胶量已经大幅减少，国内的自给率已经突破了60%。虽然高端光刻胶仍然依赖进口，但可以预见，随着中国企业的技术进步，未来进口量将进一步减少，国产替代将逐步完成。
实际上，光刻胶只是芯片产业链中的一部分。在整个芯片领域，中国正不断推进国产替代，从EDA软件到IP，再到半导体设备、半导体材料以及成品芯片，逐步提高自给率，减少对外依赖。光刻胶只是其中的一个环节，借助国家资源和资金支持，中国在芯片产业链的上游供应到后端制造方面都在积极推进，实现全产业链的自主可控。
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